TÓQUIO--(
BUSINESS WIRE-
DINO - 11 jul, 2017) -
A
Toshiba Memory Corporation, líder mundial em soluções de memória, anunciou hoje que desenvolveu a primeira
[1] memória flash tridimensional (3D) BiCS FLASH?
[2] do mundo usando tecnologia Through Silicon Via (TSV)
[3] com tecnologia de três bits por célula, ou célula de nível triplo (triple-level cell, TLC). O envido de protótipos para fins de desenvolvimento iniciou em junho e o lançamento de amostras do produto está programado para o segundo semestre de 2017. O protótipo deste dispositivo revolucionário será apresentado no Flash Memory Summit 2017, que será realizado de 7 a 10 de agosto em Santa Clara, Califórnia, EUA.
Dispositivos fabricados com tecnologia TSV têm eletrodos e vias verticais que passam por circuitos integrados para oferecer conexões, uma arquitetura que alcança entrada e saída de dados em alta velocidade enquanto reduz o consumo de energia. O desempenho real foi anteriormente comprovado, com a introdução da memória flash NAND 2D
[4] da Toshiba.
Combinar um processo flash 3D de 48 camadas e tecnologia TSV permitiu que a Toshiba Memory Corporation aumentasse com êxito a largura de banda de programação do produto alcançando um baixo consumo de energia. A eficiência de energia
[5] de um único pacote é aproximadamente duas vezes
[6] superior à memória BiCS FLASH? de mesma geração fabricada com tecnologia "wire-bonding" (ligação de fios). A BiCS FLASH? com TSV também capacita um dispositivo de 1 terabyte (TB) com uma arquitetura de 16 pastilhas empilhadas num único pacote.
A Toshiba Memory Corporation comercializará a BiCS FLASH? com tecnologia TSV para oferecer uma solução ideal para aplicações de armazenamento que exigem baixa latência, alta largura de banda e altas IOPS
[7]/Watt, inclusive SSD empresarial de alta capacidade.
Especificações gerais (protótipo) |
| Tipo de pacote | | | NAND Dual x8 BGA-152 |
| Capacidade de armazenamento | | | 512 GB | | 1 TB |
| Número de pilhas | | | 8 | | 16 |
| Dimensão externa | | | W | | | 14 mm | | 14 mm |
| | D | | | 18 mm | | 18 mm |
| | | H | | | 1,35 mm | | 1,85 mm |
| Interface | | | Alternância DDR |
| Velocidade máx. da interface | | | 1066 Mbps |
| |
Observação:
[1] Fonte: Toshiba Memory Corporation, em 11 de julho de 2017.
[2] Uma estrutura que empilha verticalmente células de memória Flash em um substrato de silício para alcançar significativas melhorias de densidade em relação à memória Flash NAND, na qual as células estão formadas no substrato de silício.
[3] Through Silicon Via: a tecnologia com eletrodos e vias verticais que passam por circuitos integrados para oferecer conexão num único pacote.
[4] "Toshiba desenvolve primeira memória flash NAND com 16 pastilhas empilhadas do mundo com tecnologia TSV"
http://toshiba.semicon-storage.com/ap-en/company/news/news-topics/2015/08/memory-20150806-1.html
[5] A taxa de velocidade de transferência de dados por unidade de força (MB/s/W).
[6] Em comparação com os produtos atuais da Toshiba Memory Corporation.
[7] Entrada/saída por segundo: o número de entradas e saídas de dados para processamento por uma porta de E/S por segundo. Um valor maior representa um melhor desempenho.
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Fonte: BUSINESS WIRE