TOSHIBA E NUFLARE RECEBERAM O 59º GRANDE PRÊMIO DE PRODUÇÃO ...
--Para o Desenvolvimento e Aplicação de Gravadores de Máscara LSI--
TÓQUIO, Japão--(BUSINESS WIRE)--13 de Fevereiro de 2013--A Toshiba Corporation (Toshiba) (TOKYO:6502) e a NuFlare Technology, Inc. (NFT) (JASDAQ:6256) receberam o 59º grande prêmio de produção Okochi Memorial pelo seu desenvolvimento conjunto e aplicação prática dos gravadores de máscara de feixe de elétrons (EB). A cerimônia de premiação será realizada em Tóquio no dia 22 de março.
Os circuitos LSI são fabricados usando ferramentas de litografia para projetar e diminuir padrões de circuitos mestre em wafers. Os padrões de circuitos mestre são primeiramente escritos em máscaras pelos gravadores de máscaras EB. Anteriormente, a maioria dos gravadores de máscara EB utilizavam pontos de feixes para escrever os padrões, e estes tiveram que se tornar menores com a escala dos LSIs. Isso aumentou o tempo de gravação para máscaras e tornou-se o principal desafio na melhoria da produtividade em fabricação de máscaras.
A Toshiba e a NFT juntas desenvolveram um prático gravador de máscara EB com maior precisão de escrita e produtividade que utiliza um método de gravação de máscara com feixe em forma de variável (VSB), onde feixes de elétrons são formados nas formas desejadas para preencherem os padrões.
As empresas desenvolveram uma fórmula inovadora e um sistema de cálculo que atinge uma correção mais rápida e precisa do efeito de proximidade, o fenômeno pelo qual os elétrons dispersos do substrato da máscara alteram a degradação de exposição do feixe e a precisão do padrão de máscara. A tecnologia anterior exigia alguns dias de cálculos para atingir o erro de cálculo alvo, inferior a 0,5%. A nova fórmula reduz o tempo de cálculo para menos de 1 hora, permitindo cálculos em tempo real a serem coordenados com a escrita padrão (varredura de feixe e movimentos de estágio da ferramenta).
O desenvolvimento e aplicação de uma fonte de elétrons de alta luminosidade encurta o tempo de gravação da máscara. Isto foi alcançado através da melhoria do material da fonte de elétrons e das suas condições de funcionamento para aumentar o brilho e a quantidade de elétrons emitidos em um determinado momento. Isto eventualmente reduziu o tempo necessário para expor os feixes de elétrons na máscara em 95%, reduzindo significativamente o tempo de gravação.
As empresas continuarão a promover a tecnologia inovadora para atender a demanda crescente de gravadores de máscara com maior precisão e produtividade.
Sobre a Toshiba
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A Toshiba foi fundada em 1875 e hoje opera uma rede global de mais de 550 empresas consolidadas, com 202 mil funcionários em todo o mundo e vendas anuais que ultrapassam 6,1 trilhões de ienes (US$ 74 bilhões). Visite o site da Toshiba em www.toshiba.co.jp/index.htm
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